P21H系列(质量流量控制器/质量流量计)是专为需要高纯度全金属流道的半导体和其它高端工艺制程应用而设计的,产品采用超高纯设计，所有与气体接触表面光洁度均可达0.1um Ra,接液部分使用316L VimVar材料,更能抵御腐蚀性气体造成的精度漂移,适应半导体等对零部件洁净度、精密性和抗腐蚀性的高要求，同时配备多种通讯模式,可供客户灵活选择定制,被广泛应用于半导体等多种高精尖端工艺制程。

     超高精度，可达±0.05% F.S；
     超快速响应<200ms；
     重复性对标行业领先产品，可达 0.02%F.S；
     接液材料采用316L VimVar，耐腐蚀性好；
     可定制多种工作压力、通讯模式、屏幕显示、机械接口，适用于高精尖端工艺制程。

P21C系列(质量流量控制器/质量流量计)是专为半导体等高端工艺制程而设计的压力不敏感型产品,基于层流压差式技术原理,精度可达±0.05%F.S.,<200ms的超快速响应实现了高灵敏度的流量测量,同时重复性对标行业领先水平，产品严格按照SEMI标准执行制造,与气体接触表面光洁度均可达0.1um Ra,适用于半导体集成电路等多种高精尖端工艺制程。

    超高精度，可达±0.05%F.S；
   超快速响应<200ms；
   重复性对标行业领先产品，可达±0.02%F.S；
   可定制多种工作压力、通讯模式、屏幕显示、机械接口，适用于高精尖端工艺制程。

   P21R系列(质量流量控制器/质量流量计)是高精度控制和测量气体质量流量的产品,采用层流压差式传感器技术,自主研发的双层流单元结构,气体流量控制算法,保证了产品的高精度和稳定性,可实现多气体、多量程。快响应、抗腐蚀的气体流量控制,被广泛应用在半导体制造,如沉积、刻蚀、离子注入、清洗、热处理等设备中。

高精度±1%S.P./±0.2%F.S；
多量程，适用范围 1sccm~200 SLM；
多气体，可支持 400 多种气体；
可定制通讯模式、屏幕显示、机械接口；
适用于各类高端工艺制程。

     P21F系列是专为光伏储能、半导体照明、显示面板等泛半导体行业设计的(质量流量控制器/质量流量计),基于层流压差式技术原理,保证了设备的高精度和稳定性。产品支持W型、C型IGS气路系统,自定义过程端口和电气连接器,同时配备RS485、PROFIBUS、DeviceNet、EtherCAT等多种通讯模式,可以很好的满足客户的不同应用需求,以便轻松集成到您的工业过程中。

  高精度，±1%S.P./±0.2%F.S
  响应速度<500ms；
  可定制多种工作压力、通讯模式、机械接口。